مهندسی پاکسازی الکترونیک نوری به عنوان حذف آلودگی های ذرات گرد و غبار، هوای مضر، باکتری و غیره در فضای خاص تعریف می شود و دمای داخلی، رطوبت، پاکسازی، فشار داخلی، سرعت جریان هوا و توزیع جریان هوا، لرزش سر و صدا و روشنایی، الکتریک استاتیک را در محدوده ای از نیاز خاص کنترل می کند و به فضای بسته طراحی شده است.
مهندسی پاکسازی میکروالکترونیک نوری همچنین به عنوان اتاق خالی گرد و غبار یا اتاق پاک نامیده می شود، در حال حاضر یک تاسیسات مهم برای نیمه هادی، تولید دقیق، تولید کریستال مایع، تولید نوری، تولید صفحه سیم و صنایع بیوشیمی، دارویی، تولید مواد غذایی و غیره ضروری است. در سال های اخیر، به دلیل توسعه نوآوری فناوری، نیاز به دقت بالا و کوچک سازی محصولات ضروری تر است، مانند تحقیق و تولید مدار فوق العاده بزرگ، به پروژه ای تبدیل شده است که در توسعه علمی و فناوری در سراسر جهان اهمیت زیادی دارد، در حالی که فلسفه طراحی و فناوری ساخت و ساز شرکت ما در صنعت پیشرو است.
مهندسی پاکسازی میکروالکترونیک نوری به طور کلی شامل:
1- منطقه تولید پاک
2- تمیز کردن اتاق های کمکی (از جمله اتاق تمیز کردن افراد، اتاق تمیز کردن مواد و بخشی از اتاق های زندگی و غیره)
مناطق مدیریت (از جمله دفتر، وظایف، مدیریت و استراحت)
منطقه تجهیزات (از جمله برنامه های سیستم تهویه مطبوع، اتاق های الکتریکی، اتاق های آب و گاز بسیار خالص، اتاق های تجهیزات گرمایش سرد)
اصل پاکسازی مهندسی میکروالکترونیک نوری
جریان هوا → پاکسازی اولیه → تهویه مطبوع → پاکسازی متوسط → تهویه هوا → لوله → پاکسازی با کارایی بالا → دمیدن به اتاق → برداشتن باکتری های گرد و غبار
ذرات دیگر → پنجره های بازگشت → پاکسازی اولیه فرآیند بالا را تکرار کنید تا به هدف پاکسازی برسید.
پارامترهای پاکسازی مهندسی پاکسازی میکروالکترونیک نوری
تعداد تغییر هوا: 100،000 درجه ≥ 15 بار؛ 10000 درجه ≥ 20 بار؛ 1000 تا 30 بار تفاوت فشار: کارگاه اصلی نسبت به اتاق مجاور ≥5Pa
سرعت متوسط باد: 10 درجه، 100 درجه 0.3 تا 0.5 متر در ثانیه دمای زمستان 16 درجه تابستان ۲۶ درجه نوسانات ± 2 درجه سانتیگراد
دمای 45 تا 65 درصد رطوبت کارگاه پودر GMP حدود 50٪ مناسب است. رطوبت کارگاه الکترونیکی کمی بالاتر است تا از تولید برق استاتیک جلوگیری شود.
صدا ≤65dB (A) مقدار اضافه باد تازه 10 تا 30 درصد از کل مقدار هوا است. روشنایی 300LX